ଉଚ୍ଚ ବୋରୋସିଲିକେଟ୍ ଗ୍ଲାସ୍ ରାସିଗ୍ ରିଙ୍ଗସ୍

ରାସିଗ୍ ରିଙ୍ଗ ଲମ୍ବ ଏବଂ ବ୍ୟାସରେ ପ୍ରାୟ ସମାନ, ଏବଂ ପାତନକରଣ ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ରାସାୟନିକ ଇଞ୍ଜିନିୟରିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟା ସମୟରେ ଟାୱାରରେ ପ୍ୟାକିଂ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ। ତରଳ ଏବଂ ଗ୍ୟାସ କିମ୍ବା ବାଷ୍ପ ମଧ୍ୟରେ ପାରସ୍ପରିକ କ୍ରିୟା ପାଇଁ ଟାୱାରରେ ଏକ ବଡ଼ ପୃଷ୍ଠ କ୍ଷେତ୍ର ପ୍ରଦାନ କରନ୍ତୁ।
ଡିଷ୍ଟିଲେସନ୍ ସ୍ତମ୍ଭରେ, ରିଫ୍ଲକ୍ସଡ୍ କିମ୍ବା ଘନୀଭୂତ ବାଷ୍ପ ସ୍ତମ୍ଭ ତଳକୁ ପ୍ରବାହିତ ହୋଇ ରିଙ୍ଗର ପୃଷ୍ଠକୁ ଆଚ୍ଛାଦନ କରିଥାଏ, ଯେତେବେଳେ ରିବଏଲର୍ ରୁ ବାଷ୍ପ ସ୍ତମ୍ଭକୁ ଉପରକୁ ଉଠିଥାଏ। ଯେତେବେଳେ ବାଷ୍ପ ଏବଂ ତରଳ ଏକ ଛୋଟ ସ୍ଥାନରେ ବିପରୀତ ଭାବରେ ଗତି କରନ୍ତି, ସେମାନେ ସନ୍ତୁଳନ କରିବାକୁ ପ୍ରବୃତ୍ତ ହୁଅନ୍ତି। ଏହା ଗ୍ୟାସ୍ ଶୋଷଣ, ଷ୍ଟ୍ରିପିଂ କିମ୍ବା ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ପାଇଁ ଗ୍ୟାସ୍ ଏବଂ ତରଳ ସହିତ ସମ୍ପର୍କ କରୁଥିବା ଡିଭାଇସ୍ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ, ଏବଂ ବାୟୋରିଆକ୍ଟରରେ ବାୟୋଫିଲ୍ମ ପାଇଁ ଏକ ସମର୍ଥନ ଭାବରେ।